韓國DAEIL,主動隔振光學平臺,DVIA-MO Series,為需要低于 5 Hz 的低頻隔振的光子學、激光和光譜學提供絕對的振動控制環境 2024年12月27日 楊輝 19821065355(微信同號)韓國DAEIL,主動隔振光學平臺,DVIA-MO Series,為需要低于 5 Hz 的低頻隔振的光子學、激光和光譜學提供絕對的振動控制環境主動隔振光學平臺DVIA-MO 系列提供高度先進的隔振DVIA-MO 系列是 DVIA-M 主動隔振系統與高性能 光學桌面的組合,為需要低于 5 Hz 的低頻隔振的光子學、 激光和光譜學提供絕對的振動控制環境。亞赫茲振動隔離性能DVIA-MO系列內置了最先進的主動振動控制算法,能夠在六個自由度方向上實現1赫茲時50%至80%的振動隔離,以及在2赫茲時90%的振動隔離。超剛性光學平臺我們的光學平臺經久耐用,設計盡可能剛硬,以最大限度地減少安裝在光學平臺上的現有光學元件之間的相對運動。反饋與前饋控制算法DVIA系列采用反饋控制算法,持續檢測干擾隔離表面的振動,并立即做出反應,以實時最小化振動。DVIA系列還采用了前饋控制算法,能夠在地板振動傳遞到安裝在主動隔振系統上的設備之前,提前過濾掉這些振動。 DVIA-MO Series 為需要低于 5 Hz 的低頻隔振的光子學 主動隔振光學平臺 激光和光譜學提供絕對的振動控制環境 韓國DAEIL