Dataray工業激光監測系統ILMS、高分辨率聚焦成像、DataRay光束分析儀

高分辨率聚焦成像——高損傷閾值(最高可達1*千瓦)
工業激光監測系統ILMS專為分析高功率工業激光的聚焦光斑而設計。該系統結合了再成像/放大光學元件、保偏分束器以及DataRay光束分析儀,可測量微小光束腰(小至數微米),而傳統分析系統在此條件下可能受損。通過放大聚焦光束,該系統能對低至微米級的光斑進行全像素逐點二維測量。

ILMS兼容大多數DataRay光束分析儀,并配備功能全面、高度可定制且以用戶為中心的軟件(無許可費用)。軟件自動計算系統放大倍率,無需后處理或手動修正結果。

核心特點

  • 波長范圍覆蓋190 nm至16 μm

  • 可測光束腰直徑低至數微米

  • 提供高放大倍率選項(50倍及以上)

  • 支持高功率激光(最高千瓦級)

  • 三組可切換濾光片實現靈活精細衰減

  • 分析儀可單獨拆卸使用

  • 可選配校準針孔光圈

  • 集成功率計與光束捕集器(可選)

  • 提供無分束器版本(適用于低功率聚焦光束)

  • 集成功率計選項(詳情咨詢)

典型應用

  • 緊聚焦光束、光纖端面、邊緣耦合器、激光二極管等

  • 高功率激光切割系統

  • 增材制造

  • 質量控制


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