EBIS （Electron Beam Ion Source）電子離子源

2015年5月26日

兩個汝鐵硼永磁環提供壓縮電子束的磁場，這些將被安裝在真空室中為離子源提供烤焙，

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磁場強度：400mT

阱深：60mm

電子能量：最高20kev

最大束流：200mA