Harrick scientific WafIR ATR晶圓檢查器、Harrick水平ATR附件
WafIR是一種水平ATR附件，用于分析雙面拋光晶片一面上的單層和其他薄涂層。它以45°入射角的硅晶體為特征，將光耦合進和耦合出晶片。WafIR包括一個帶有壓力墊的壓力施加器，設(shè)計用于最小接觸面積的最佳接觸，并且接觸面積在測量區(qū)域之外。壓力施加器包括一個滑動離合器，以限制施加到樣品上的總力，并與扭矩扳手兼容，以實現(xiàn)可重復(fù)性。WafIR是全封閉的，可快速吹掃，并與大多數(shù)FTIR光譜儀兼容。
特征
- 無障礙的水平取樣表面可容納直徑從52 x 10毫米到203毫米(8英寸)的晶片。
- 非接觸取樣法；與耦合晶體的接觸在測量區(qū)域之外。
- 由于多次反射，靈敏度高。
- 為0.770 mm厚的晶片提供了來自涂層表面的33次反射。
- 固定45°入射角。
- 可替換硅耦合晶體。
- 內(nèi)置滑動離合器限制施加到樣品上的總力。
- 獨特的壓力施加器，帶襯墊，與樣品接觸最少。
- 易于校準(zhǔn)和使用。
- PermaPurge用于快速樣品交換，無需中斷吹掃。
包含
- 硅耦合晶體波導(dǎo)。
- 指定光譜儀的配套硬件。
