Harrick漫反射附件，Harrick原位池，Praying Mantis紅外原位附件，通過傅里葉和紫外可見光譜法對固體和粉末進行漫反射分析，以及在溫度和/壓力控制的環(huán)境中對催化劑和粉末進行分析
Harrick 低溫反應室 CHC-CHA-5，CHC-VUV-5, 工作溫度范圍-150°C to 600°C（真空下），非常適合在精確控制的溫度和壓力下研究多相催化、氣-固相互作用、光化學反應和氧化機制方面的應用
HARRICK PRAYING MANTIS 紅外原位池，用于通過FT-IR和UV-VIS光譜法對固體和粉末進行簡單可靠的漫反射分析，以及在溫度和/或壓力控制的環(huán)境中對催化劑和其他粉末進行分析
美國Harrick Praying Mantis 原位紅外漫反射附件, 紅外原位池，紅外原位附件，紅外漫反射附件，紅外漫反射系統，原位紅外反應池，漫反射反應池，原位紅外光譜儀附件， 紅外原位反應池，紅外附件，是第一個普遍可用的漫反射附件（DRIFTS），用于通過FT-IR和UV-VIS光譜法對固體和粉末進行簡單可靠的漫反射分析，以及在溫度和/或壓力控制的環(huán)境中對催化劑和其他粉末進行分析
Harrick HVC-DRP-5 高溫反應室，HVC-DRM-5 高溫反應池，HVC-VUV-5紫外高溫反應室，原位高溫附件，HARRICK原位漫反射, 高溫反應池，紅外光譜儀催化反應, 原位池，高溫反應室，原位紅外池，HVC-DRP-5 紅外漫反射高溫反應室，用于從室溫到910℃（真空下）對粉末進行漫反射光譜分析，可用于多相催化、氣固相互作用、光化學反應等分析應用
美國HARRICK原位池，原位漫反射附件，低溫反應室，低溫紅外附件，CHC-CHA-3紅外低溫池，低溫反應池，CHC-VUV-3紫外漫反射低溫反應室，紅外漫反射附件，用于在-150°C至600°C對粉末進行漫反射測量，適用于多相催化、氣固相互作用、光化學反應
HARRICK 高溫反應室，高溫池，原位高溫附件，HARRICK原位漫反射, HVC-DRM-5 高溫池，高溫反應池，紅外光譜儀催化反應, 原位池，高溫反應室，原位紅外池，HVC-DRP-5 紅外漫反射高溫反應室，HVC-VUV-5紫外高溫反應室，用于從室溫到910℃（真空下）對粉末進行漫反射光譜分析，可用于多相催化、氣固相互作用、光化學反應等分析應用
HARRICK DRK-4-XXX 紅外原位池，HARRICK PRAYING MANTIS 原位紅外漫反射附件，原位池，原位裝置，原位紅外反應池，漫反射反應池，原位紅外光譜儀附件， 紅外原位反應池，紅外附件
Harrick DRK-4-XXX 紅外原位池，Harrick Praying Mantis 原位紅外漫反射附件，原位池，原位裝置，原位紅外反應池，漫反射反應池，原位紅外光譜儀附件， 紅外原位反應池，紅外附件
HARRICK CHC-CHA-3紅外低溫池，低溫反應池，低溫反應室, CHC-VUV-3紫外漫反射低溫反應室，紅外漫反射附件，用于在-150°C至600°C對粉末進行漫反射測量，適用于多相催化、氣固相互作用、光化學反應
Harrick HVC-DRM-5 高溫池，高溫反應池，原位池，高溫反應室，原位紅外池，HVC-DRP-5 紅外漫反射高溫反應室，HVC-VUV-5紫外高溫反應室，用于從室溫到910℃（真空下）對粉末進行漫反射光譜分析，可用于多相催化、氣固相互作用、光化學反應等分析應用
harrick HVC-DRM-5 高溫反應室 HVC-DRP-5 紅外漫反射高溫反應室，HVC-VUV-5紫外高溫反應室，用于從室溫到910℃（真空下）對粉末進行漫反射光譜分析，可用于多相催化、氣固相互作用、光化學反應等分析應用
