漫反射光譜是檢測粗糙材料表面變化的一種非常敏感的方法。它對于具有高表面積的粉末特別有效。這使得漫反射對于異質催化、氣固相互作用、光化學反應和氧化機制的研究非常寶貴。此低溫反應室非常適合在精心變化的溫度和壓力下進行此類研究。這些低溫反應室允許在廣泛的受控溫度和壓力下進行漫反射測量,并與 FT-IR 和 UV-Vis 漫反射光譜的祈禱萬只龍頭附件結合使用。

特征

設計用于從高真空(133 μPa 或 10-6 torr)到 133 kPa (1 ktorr) 和 -150°C 至 600°C(真空下)的低溫。
提供三個入口/出口口,用于疏散電池和引入氣體。
由耐化學腐蝕的316不銹鋼制成。

包括

反應室
低壓加熱盒。
K型熱電偶。
樣品包裝工具和溢出托盤。
帶兩個 KBr 窗口和一個玻璃觀察窗口的圓頂(FTIR 配置)
帶兩個 SiO2 窗口和一個玻璃觀察窗的圓頂(UV-Vis-NIR 配置)