Harrick HVC-MRA-5 高溫反應室可用于拉曼光譜研究！我們經過時間檢驗的漫反射光譜反應室已重新配置，以便使用拉曼顯微鏡和光譜儀進行測量。

Harrick HVC-MRA-5 該高溫反應室是在受控環境條件下對粉末進行拉曼測量的有效工具。該反應室設計用于從高真空至25.8 ktorr和從常溫到高達910°C（在真空下）進行操作，是研究多相催化，氣固相互作用，光化學反應和氧化機理的理想選擇。

HVC-MRA-5 拉曼高溫反應室主要特征：

設計用于從高真空（10-6 torr）到25.8 ktorr的操作
可在高達910攝氏度（真空）的環境溫度下操作。
8毫米開孔。
可拆除的13x2mm SiO2窗片。
提供了三個進/出口，用于排空反應腔和引入氣體。
由耐化學腐蝕的316不銹鋼制成。
提供可選的Silcotek / Restek涂層，以提高抗腐蝕性。
可選的冷卻盒可用于通過冷卻器或再循環器進行適度的冷卻或加熱