Harrick HVC-MRA-5?拉曼高溫原位池是在受控環境條件下對粉末進行拉曼測量的有效工具。該反應室設計用于從高真空至25.8 ktorr和從常溫到高達910°C（在真空下）進行操作，是研究多相催化，氣固相互作用，光化學反應和氧化機理的理想選擇。與拉曼顯微鏡或光譜儀結合使用。

Harrick?HVC-MRA-5 拉曼反應池主要應用：

允許在受控壓力和廣泛溫度范圍內進行拉曼測量。
與拉曼顯微鏡或光譜儀配合使用。

Harrick?HVC-MRA-5拉曼高溫反應池主要特征：

設計用于從高真空（10-6 torr）到25.8 ktorr的操作
可在高達910攝氏度（真空）的環境溫度下操作。
8毫米開孔。
可拆除的的13x2mm SiO2窗片。
提供了三個進/出口，用于排空反應腔和引入氣體。
由耐化學腐蝕的316不銹鋼制成。
提供可選的Silcotek / Restek涂層，以提高抗腐蝕性。
可選的冷卻盒可用于通過冷卻器或再循環器進行適度的冷卻或加熱。

主要搭配附件：ATK-024-4溫控儀