漫反射光譜法是檢測(cè)粗糙材料表面變化的一種非常靈敏的方法。它對(duì)具有高比表面積的粉末特別有效。這使得漫反射對(duì)于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)和氧化機(jī)制的研究非常寶貴。Harrick低溫反應(yīng)室非常適合在仔細(xì)變化的溫度和壓力下進(jìn)行此類研究。這些低溫反應(yīng)室允許在廣泛的控制溫度和壓力下進(jìn)行漫反射測(cè)量，并與用于FT-IR和UV-Vis漫反射光譜的漫反射配件一起使用。
設(shè)計(jì)用于高真空（133μPa或10-6托）至133 kPa（1 ktorr）和-150°C至600°C（真空條件下）的研究。
提供三個(gè)入口/出口，用于排空反應(yīng)池和引入氣體。
由耐化學(xué)腐蝕的316不銹鋼制成。
包括
反應(yīng)室
低壓加熱筒。
K型熱電偶。
樣品包裝工具和溢出托盤。
帶有兩個(gè)KBr窗口和一個(gè)玻璃觀察窗口的圓頂（FTIR配置）
帶有兩個(gè)SiO2窗口和一個(gè)玻璃觀察窗口的圓頂（UV-Vis-NIR配置）
搭配附件：
