Harrick 低溫反應室

漫反射光譜是一種非常靈敏的方法，用于檢測粗糙材料表面上的變化。它對表面積較大的粉末特別有效。這使得漫反射在研究多相催化、氣-固相互作用、光化學反應和氧化機制方面非常有價值。Harrick 低溫反應室非常適合在精確控制的溫度和壓力下進行此類研究。Harrick 低溫反應室允許在廣泛的控制溫度和壓力下進行漫反射測量，并與用于傅里葉變換紅外光譜（FT-IR）和紫外-可見漫反射光譜（UV-Vis）的Praying Mantis附件配合使用。

Harrick 低溫反應室標準配置：

? 反應室。
? 低電壓加熱元件。
? K 型熱電偶。
? 樣品包裝工具和溢出托盤。
? 帶有兩個 KBr 窗口和一個玻璃觀察窗的穹頂（FTIR 配置）。
? 帶有兩個 SiO2 窗口和一個玻璃觀察窗的穹頂（UV-Vis-NIR 配置）。

搭配組件：

（1）Praying Mantis 漫反射裝置

（2）Temperature controller 溫控儀ATK-024-6

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