Harrick 高溫反應室

Harrick 高溫反應室特別適用于具有高表面積的粉末。這使得漫反射成為研究多相催化、氣固相互作用、光化學反應和氧化機制的寶貴工具。Harrick 高溫反應室非常適合在精確控制的溫度和壓力下進行這些研究。HVC-DRM-5高溫反應室應用允許在控制的壓力和廣泛的溫度范圍內進行漫反射（DRIFTS）光譜測量。它與Praying Mantis™附件一起用于FT-IR和UV-VIS漫反射光譜學。

Harrick 高溫反應室特點：
設計用于從高真空（133 μPa或10-6 torr）到133 kPa（1 ktorr）使用KBr窗或1.5 MPa（11.3 ktorr）使用ZnSe窗的操作。
在真空條件下可達到910°C的溫度。
可選高壓穹頂結構，適用于高達3.44 MPa（25.8 ktorr）的操作。
提供三個進出口端口，用于抽真空和引入氣體。
采用耐化學腐蝕的316不銹鋼制成。
可選擇Silcotek/Restek惰性涂層，提供更高的惰性和耐腐蝕性。
可選冷卻裝置，適用于使用冷卻器或循環器進行適度冷卻或加熱。
提供適用于電化學的適配器，支持兩、三或四電極配置。
可提供用于微光譜學應用（包括拉曼）的替代窗組件。

Harrick 高溫反應室包括：
反應室。
低壓加熱芯。
K型熱電偶。
FKM氟橡膠（等同于Viton）O形圈。
樣品裝填工具和溢出托盤。
穹頂結帶有兩個KBr或ZnSe窗口和一個玻璃觀察窗（FTIR配置）。
穹頂帶有兩個SiO2窗口和一個玻璃觀察窗（UV-Vis-NIR配置）。

（1）Praying Mantis 漫反射裝置

（2）Temperature controller 溫控儀ATK-024-6

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