Harrick HVC-MRA-5 高溫反應(yīng)室可用于拉曼光譜研究！我們經(jīng)過(guò)時(shí)間檢驗(yàn)的漫反射光譜反應(yīng)室已重新配置，以便使用拉曼顯微鏡和光譜儀進(jìn)行測(cè)量。

Harrick HVC-MRA-5 該高溫反應(yīng)室是在受控環(huán)境條件下對(duì)粉末進(jìn)行拉曼測(cè)量的有效工具。該反應(yīng)室設(shè)計(jì)用于從高真空至25.8 ktorr和從常溫到高達(dá)910°C（在真空下）進(jìn)行操作，是研究多相催化，氣固相互作用，光化學(xué)反應(yīng)和氧化機(jī)理的理想選擇。

HVC-MRA-5 拉曼高溫反應(yīng)室主要特征：

設(shè)計(jì)用于從高真空（10-6 torr）到25.8 ktorr的操作
可在高達(dá)910攝氏度（真空）的環(huán)境溫度下操作。
8毫米開孔。
可拆除的13x2mm SiO2窗片。
提供了三個(gè)進(jìn)/出口，用于排空反應(yīng)腔和引入氣體。
由耐化學(xué)腐蝕的316不銹鋼制成。
提供可選的Silcotek / Restek涂層，以提高抗腐蝕性。
可選的冷卻盒可用于通過(guò)冷卻器或再循環(huán)器進(jìn)行適度的冷卻或加熱