美國Harrick HVC-MRA-5 拉曼反應(yīng)池，拉曼高溫反應(yīng)池，拉曼光譜池，拉曼池，高溫反應(yīng)室用于拉曼顯微鏡，拉曼光譜儀，拉曼光譜儀反應(yīng)池，原位拉曼樣品池，氣固相拉曼原位反應(yīng)池，原位高溫拉曼反應(yīng)裝置，最高操作壓力到3.44MPa
HARRICK CHC-CHA-3紅外低溫池，低溫反應(yīng)池，低溫反應(yīng)室, CHC-VUV-3紫外漫反射低溫反應(yīng)室，紅外漫反射附件，用于在-150°C至600°C對(duì)粉末進(jìn)行漫反射測(cè)量，適用于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)
Harrick HVC-MRA-5 拉曼池，拉曼光譜池，拉曼高溫反應(yīng)池，拉曼池，高溫反應(yīng)室用于拉曼顯微鏡，拉曼光譜儀，拉曼光譜儀反應(yīng)池，原位拉曼樣品池，氣固相拉曼原位反應(yīng)池，原位高溫拉曼反應(yīng)裝置，在受控環(huán)境條件下對(duì)粉末進(jìn)行拉曼測(cè)量
