Harrick 低溫反應(yīng)室 CHC-CHA-5，CHC-VUV-5, 工作溫度范圍-150°C to 600°C（真空下），非常適合在精確控制的溫度和壓力下研究多相催化、氣-固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)和氧化機(jī)制方面的應(yīng)用
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