Harrick HVC-DRM-5 高溫池，高溫反應池，原位池，高溫反應室，原位紅外池，HVC-DRP-5 紅外漫反射高溫反應室，HVC-VUV-5紫外高溫反應室，用于從室溫到910℃（真空下）對粉末進行漫反射光譜分析，可用于多相催化、氣固相互作用、光化學反應等分析應用