Harrick漫反射附件，Harrick原位池，Praying Mantis紅外原位附件，通過傅里葉和紫外可見光譜法對固體和粉末進(jìn)行漫反射分析，以及在溫度和/壓力控制的環(huán)境中對催化劑和粉末進(jìn)行分析
Harrick 低溫反應(yīng)室 CHC-CHA-5，CHC-VUV-5, 工作溫度范圍-150°C to 600°C（真空下），非常適合在精確控制的溫度和壓力下研究多相催化、氣-固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)和氧化機(jī)制方面的應(yīng)用
Harrick PRAYING MANTIS 原位紅外漫反射附件, 紅外原位池，紅外原位附件，原位池，紅外漫反射附件，紅外漫反射系統(tǒng)，原位紅外反應(yīng)池，漫反射反應(yīng)池，原位紅外光譜儀附件， 紅外原位反應(yīng)池，紅外附件，是第一個(gè)普遍可用的漫反射附件（DRIFTS），用于通過FT-IR和UV-VIS光譜法對固體和粉末進(jìn)行簡單可靠的漫反射分析，以及在溫度和/或壓力控制的環(huán)境中對催化劑和其他粉末進(jìn)行分析
美國Harrick Praying Mantis 原位紅外漫反射附件, 紅外原位池，紅外原位附件，紅外漫反射附件，紅外漫反射系統(tǒng)，原位紅外反應(yīng)池，漫反射反應(yīng)池，原位紅外光譜儀附件， 紅外原位反應(yīng)池，紅外附件，是第一個(gè)普遍可用的漫反射附件（DRIFTS），用于通過FT-IR和UV-VIS光譜法對固體和粉末進(jìn)行簡單可靠的漫反射分析，以及在溫度和/或壓力控制的環(huán)境中對催化劑和其他粉末進(jìn)行分析
HARRICK DRK-4-XXX 紅外原位池，HARRICK PRAYING MANTIS 原位紅外漫反射附件，原位池，原位裝置，原位紅外反應(yīng)池，漫反射反應(yīng)池，原位紅外光譜儀附件， 紅外原位反應(yīng)池，紅外附件
Harrick HVC-DRM-5 高溫池，高溫反應(yīng)池，原位池，高溫反應(yīng)室，原位紅外池，HVC-DRP-5 紅外漫反射高溫反應(yīng)室，HVC-VUV-5紫外高溫反應(yīng)室，用于從室溫到910℃（真空下）對粉末進(jìn)行漫反射光譜分析，可用于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)等分析應(yīng)用
DiaMaxATR，高性能單反射鉆石ATR，不僅可用于普通實(shí)驗(yàn)室樣品（如液體，粉末，糊劑和固體）的直接紅外光譜分析，還可用于分析極具挑戰(zhàn)性的樣品（如極硬的固體，磨料粉和高腐蝕性液體）
Praying Mantis™ 漫反射配件，高效的漫反射收集系統(tǒng)，可最大程度地減少鏡面反射分量的檢測 可以配置為使用適當(dāng)?shù)穆瓷浞磻?yīng)室在受控環(huán)境中研究材料和反應(yīng)
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