Harrick 低溫反應室 CHC-CHA-5，CHC-VUV-5, 工作溫度范圍-150°C to 600°C（真空下），非常適合在精確控制的溫度和壓力下研究多相催化、氣-固相互作用、光化學反應和氧化機制方面的應用
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Harrick HTC-3-XXX 高溫透射池，高溫池，透射池，固體透射測量池，Harrick 高溫池，Harrick?HTC-3-XXX高溫透射池可從環境溫度到超過500°C的溫度范圍內對固體樣品進行透射測量研究，是檢測催化和其他氣固化學相互作用的理想設備
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Harrick HTC-3-XXX 固體高溫透射附件， 紅外透射附件，High Temperature Cell，透射樣品艙，紅外透射附件，透射附件，允許在500°C以上的環境溫度下對固體樣品進行光譜研究
harrick HVC-DRM-5 高溫反應室 HVC-DRP-5 紅外漫反射高溫反應室，HVC-VUV-5紫外高溫反應室，用于從室溫到910℃（真空下）對粉末進行漫反射光譜分析，可用于多相催化、氣固相互作用、光化學反應等分析應用
