WafIR™ 是一種水平 ATR 附件,用于分析應用于雙側拋光晶圓一側的單層和其他薄涂層。 它具有 45° 射合角度 Si 晶體,將光耦合到晶圓中。 WafIR 集成了帶壓力墊的壓力施用器,旨在以最小的接觸區域實現最佳接觸,接觸區域位于測量區域之外。 壓力施用器包括一個滑動離合器,用于限制施加到樣品的總力,并與扭矩扳手兼容,可重復性。 WafIR 完全封閉,可進行快速清除,并與大多數 FTIR 光譜儀兼容。

特征

無阻礙的水平采樣表面可容納直徑從 52 x 10 mm 到 203 mm (8}) 的晶圓。
非接觸式采樣方法;與耦合晶體的接觸位于測量區域之外。
由于多個反射,靈敏度高。
為 0.770 mm 厚的晶圓提供涂層表面的 33 個反射。
修復了 45° 的事件角度。
可更換的硅耦合晶體。
內置滑動離合器限制了施加到樣品的總力。
獨特的壓力施用器,帶墊片,與樣品接觸最小。
易于對齊和使用。
PermaPurge+可快速更換樣品,而不會中斷清除。
包括

帶硅耦合晶體的 WafIR。
指定光譜儀的配接硬件。