HARRICK,CHC-VUV-5,CHC-CHA-5,Praying Mantis,低溫反應室,檢測粗糙材料表面變化

Praying Mantis低溫反應室
Harrick Scientific Products
漫反射光譜法是一種非常靈敏的檢測粗糙材料表面變化的方法。它對具有高表面積的粉末特別有效

漫反射光譜法是一種非常靈敏的檢測粗糙材料表面變化的方法。它對具有高表面積的粉末特別有效。這使得漫反射在非均相催化、氣固相互作用、光化學反應和氧化機制的研究中具有不可估量的價值。這種低溫反應室非常適合在可變溫度和壓力下進行此類研究。這些低溫反應室允許在廣泛的受控溫度和壓力下進行漫反射測量，并與用于FT-IR和UV-Vis漫反射光譜的螳螂附件一起使用。

特性
設計用于從高真空(133 μPa或10-6 torr)到133 kPa (1 ktorr)的研究，溫度從-150°C到600°C(真空下)。
三個入口/出口端口，用于排出電池和引入氣體。
由耐化學腐蝕的316不銹鋼制成。
包括
反應室
低壓加熱筒。
k熱電偶。
FKM氟彈性體(相當于Viton) o型圈。
樣品包裝工具和溢出托盤。
圓頂帶有兩個KBr窗和一個玻璃觀察窗(FTIR配置)
圓頂帶有兩個SiO2窗和一個玻璃觀察窗(UV-Vis-NIR配置)

Praying Mantis低溫反應室(UV-Vis-NIR) – CHC-VUV-5
CHC-VUV-5

Praying Mantis低溫反應室(FTIR) – CHC-CHA-5
CHC-CHA-5

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