HARRICK,HVC-DRP-5,HVC-VUV-5,HVC-DRM-5,高溫反應(yīng)室

HARRICK,HVC-DRP-5,HVC-VUV-5,HVC-DRM-5,高溫反應(yīng)室

高溫反應(yīng)室(FTIR, KBr) – HVC-DRP-5
HVC-DRP-5

螳螂™高溫反應(yīng)室(UV-Vis-NIR) – HVC-VUV-5
HVC-VUV-5

高溫反應(yīng)室(FTIR, ZnSe) – HVC-DRM-5
HVC-DRM-5

Harrick Scientific Products
Praying Mantis高溫反應(yīng)室對(duì)具有高表面積的粉末特別有效。這使得漫反射成為研究多相催化的一個(gè)有價(jià)值的工具

特征

Praying Mantis高溫反應(yīng)室對(duì)具有高表面積的粉末特別有效。這使得漫反射成為研究非均相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)和氧化機(jī)制的重要工具。這種高溫反應(yīng)室非常適合在精心控制的溫度和壓力下進(jìn)行此類研究。高溫反應(yīng)室應(yīng)用允許漫反射(漂移)光譜測(cè)量在控制的壓力和廣泛的溫度范圍內(nèi)。它與用于FT-IR和UV-VIS漫反射光譜的Praying Mantis配件一起使用。其他模型可用于低體積和拉曼光譜。

特性
設(shè)計(jì)用于高真空(133 μPa或10-6 torr)至133 kPa (1 ktorr)的KBr窗口或1.5 MPa (11.3 ktorr)的ZnSe窗口操作。
達(dá)到溫度高達(dá)910°C(真空下)。
易于適應(yīng)高達(dá)3.44MPa (25.8 ktorr)的操作,可選高壓圓頂。
三個(gè)入口/出口端口,用于排出電池和引入氣體。
由耐化學(xué)腐蝕的316不銹鋼制成。
可選Silcotek/Restek惰性涂層,具有更高的惰性和耐腐蝕性。
可選的冷卻筒可用于適度冷卻或加熱與冷水機(jī)或再循環(huán)。
用于電化學(xué)的適配器提供兩個(gè),三個(gè)或四個(gè)電極就緒配置。
可用于微光譜學(xué)應(yīng)用的替代窗口組件,包括拉曼。
包括
反應(yīng)室。
低壓加熱筒。
k熱電偶。
FKM氟彈性體(相當(dāng)于Viton) o型圈。
樣品包裝工具和溢出托盤。
圓頂有兩個(gè)KBr或ZnSe窗和一個(gè)玻璃觀察窗(FTIR配置)。
圓頂有兩個(gè)SiO2窗和一個(gè)玻璃觀察窗(UV-Vis-NIR配置)。

配件

ATK-024-5 溫度控制器套件 110V-ATK-024-5
ATK-024-6 溫度控制器套件 220V/240V-ATK-024-6
HVC-DWP-2標(biāo)準(zhǔn)反應(yīng)室圓頂,KBr – HVC-DWP-2
HVC-DWI-3高壓穹頂,ZnS,高溫室- HVC-DWI-3

HVC-MRA標(biāo)準(zhǔn)反應(yīng)室拉曼組件,sio2 – HVC-MRA

DRP-SX3? Praying MantisDRP-SX3顯微樣品杯和漏斗
007-085? VCO到Swagelok適配器(英文)- 007-085
HVC-COL HVC冷卻盒- HVC- col – HVC- col
DRP-PDR? Praying Mantis凈化盾- DRP-PDR
116-998 VCO到Swagelok適配器(公制)- 116-998
KBR-100 KBr粉末,光譜級(jí),100g – KBr -100
008-144 熱電偶,k型- 008-144
ORK-010 FFKM全氟彈性體(相當(dāng)于Kalrez) o型圈,0.379 OD, 0.239 ID – ORK-010
ORV-010 FKM氟彈性體(相當(dāng)于Viton) o型圈,0.379 OD, 0.239 ID – ORV-010

HARRICK,HVC-DRP-5,HVC-VUV-5,HVC-DRM-5,高溫反應(yīng)室

Praying Mantis™ High Temp. Reaction Chamber

http://ydzhly.com/harricksci/HVC-DRP-5,HVC-VUV-5,HVC-DRM-5/

 


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