? ? ?光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導體材料在表面加工時，若采用適當的有選擇性的光刻膠，可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負性兩大類。在光刻膠工藝過程中，涂層曝光、顯影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來，該涂層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來，而未曝光被溶解，該涂層材料為負性光刻膠。按曝光光源和輻射源的不同，又分為紫外光刻膠（包括紫外正、負性光刻膠）、深紫外光刻膠、X-射線膠、電子束膠、離子束膠等。光刻膠主要應用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業 。光刻膠生產技術較為復雜，品種規格較多，在電子工業集成電路的制造中，對所使用光刻膠有嚴格的要求。
黏滯性/黏度（Viscosity）是衡量光刻膠流動特性的參數。黏滯性隨著光刻膠中的溶劑的減少而增加；高的黏滯性會產生厚的光刻膠；越小的黏滯性，就有越均勻的光刻膠厚度。光刻膠的比重（SG，Specific Gravity）是衡量光刻膠的密度的指標。它與光刻膠中的固體含量有關。較大的比重意味著光刻膠中含有更多的固體，黏滯性更高、流動性更差。黏度的單位：泊（P，1 P=10-1?Pa·s），光刻膠一般用厘泊（cP，1 cP=10-2?P）來度量。百分泊即厘泊為絕對黏滯率；運動黏滯率定義為：運動黏滯率=絕對黏滯率/比重。 單位：百分斯托克斯（cst）=1 mm2/s?[5].大多數光刻膠生產商用在光刻膠中轉動風向標的方法測量黏度。
生產工藝
（1）肉桂酰氯的制備：先將肉桂酸加入酰氯化反應器中，然后加入SOCl2[m（肉桂酸）:m（二氯亞砜）=1.0:4.2]，迅速反應，加熱升溫至回流，維持溫度100~110℃，反應至計泡器中無氣泡析出為止。酰氯化反應時間3~4 h。反應完成后得棕黃色液體，先于50℃下用水力真空泵抽去未反應的SOCl2，全部抽凈后用機械真空泵減壓蒸餾，收集122~123℃、1067 Pa餾分，冷卻后得淺黃色固體，即得肉桂酰氯。
（2）聚乙烯醇肉桂酸酯的制備：先將精制的聚乙烯醇與50%的無水吡啶混合均勻，將此混合液加入酯化反應釜中，于100℃下保溫溶脹12 h，待溫度降至50~55℃后，加入剩余的50%的無水吡啶，于攪拌下緩慢滴加肉桂酰氯，溫度控制在50~55℃，滴加完畢，于50~60℃條件下繼續反應4 h，反應液逐漸變成黏稠體，同時有晶體析出。加入丙酮稀釋、過濾，然后將濾液緩慢倒入蒸餾水中，聚乙烯醇肉桂酸酯呈纖維狀沉淀析出，過濾后用水洗至無氯負離子，最后于暗處在50~60℃下干燥至恒重。
（3）光刻膠的配制：其配膠組成高聚物（聚乙烯醇肉桂酸酯）、增感劑【5-硝基苊（加入量一般不大于聚乙烯醇肉桂酸酯質量的10%）】、溶劑（環己酮）及所需的添加劑混合，待聚乙烯醇肉桂酸酯溶解完成全后，充分攪拌，將各組分混合均勻，即得聚乙烯醇肉桂酸酯光刻膠.
英國Hydramotion在線粘度計技術參數：
