idonus,具有雙圖像顯微鏡的掩模對準系統(tǒng)(MAS + DIM)
具有雙圖像顯微鏡的掩模對準系統(tǒng)(MAS + DIM)
T掩模對準器被設(shè)計成將掩模與襯底精確對準。使用例如蔭罩允許進行無光刻的薄膜沉積。一旦晶片在掩模下對準，兩個襯底將被夾在雙卡盤中。然后，帶有襯底的被夾緊的雙卡盤可以被插入到PVD室中進行蒸發(fā)。在沉積之后，雙卡盤將被分離，并且可以取出襯底
除了蔭罩之外，idonus掩模對準器還具有廣泛的應(yīng)用，例如:
簡單
真空夾緊能力和3軸手動對準使這種掩模對準器非常容易使用。
靈活性
校準器被設(shè)計用于幾種標準或非標準的晶片尺寸和形狀。idonus根據(jù)您的需求生產(chǎn)卡盤。
精確
結(jié)合顯微鏡，可以實現(xiàn)最小5微米的對準公差。我們提出了自己的用于對準控制的雙圖像顯微鏡。用戶可以同時聚焦和觀察兩個對準位置，以簡化對準過程。
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