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與…一起UV-EXP idonus系列提供了一種創新的紫外線照明系統，該系統基于高功率led和高級均化光學器件的使用。該產品線應用于光刻膠曝光(UV-LED光刻和固化)，適用于MEMS、微流體、光子學、半導體和光伏應用中使用的各種襯底和光刻膠。我們的標準紫外線照明產品系列解決了300毫米(11.8英寸)寬的掩模和晶片的光刻需求。

可以設計定制的解決方案來滿足您的特定要求(例如改裝面罩矯正器，為您未來的產品提供OEM服務)。欲知更多詳情紫外LED改裝和定制曝光系統，另請參閱我們的解決方案>技術頁面。

為什么選擇LED技術？

直到最近，汞弧燈是唯一能夠提供適用于UV光刻曝光的高強度光的光源。由于LED技術的進步，UV-LED已經成為危險且耗能的汞燈的非常有吸引力的替代品。

除了生態和安全方面，與傳統的汞燈相比，UV-led的技術優勢對于光刻來說是眾多且重要的。紫外發光二極管的一個最大優點是，它們在很長的壽命內以一致的發射工作。因此，不需要日常校準和維護。此外，由于能效更高，led減少了發熱，從而大大簡化了系統冷卻。

值得注意的是，發射365納米、405納米和435納米(峰值波長)的發光二極管可以組合起來模擬汞弧燈的UV-A光譜(i-line,?h線和g線汞元素的特征峰)，可以看出在這個圖表中.

UV-LED曝光的好處:

穩定的照明，無需每日校準
瞬間接通，光只在曝光時打開，不需要機械快門
長壽命，意味著不再需要耗材
專一性的:不會對襯底產生不必要的加熱，工藝可重復程度更高
低功耗
沒有維護成本

idonus UV-LED曝光系統

idonus推出了完整的UV-LED曝光產品系列。我們的系統集成了市場上最有效的UV-led和高級微透鏡陣列。它們完全在內部組裝和控制。我們的設計采用了全遠心光學系統，可在整個曝光區域提供可重復且均勻的照明條件即具有非常小的發散角的高度均勻和穩定的強度。這種尖端光學器件確保整個基板完全均勻曝光，產生具有直側壁的固化光刻膠，并實現具有微米臨界尺寸的圖案的精確微結構。