蔭罩掩膜對準(zhǔn)器 Shadow Mask Aligner

設(shè)備簡介：
本設(shè)備可以用于精確和可重建性的對準(zhǔn)蔭罩掩膜和晶圓。可以放于真空腔體用于PVD工藝。沉積后，夾盤可以打開，晶圓和掩膜可以不破壞的分離，并且掩膜板可以重復(fù)利用。
夾盤可以用于任何基底尺寸以滿足用戶的要求，并且我們也可以提供精確和經(jīng)濟(jì)的由金屬、硅、玻璃、陶瓷等制造的蔭罩掩膜。

產(chǎn)品型號：SMA-100，SMA-150，SMA-200
晶圓和蔭罩尺寸：100mm,150mm,200mm，取決于設(shè)備的配置
樣品臺特征：
X和Y方向范圍：步進(jìn)10μm，靈敏度2μm
Z方向范圍：步進(jìn)10μm，靈敏度2μm
旋轉(zhuǎn)角度：360°不間斷
傾斜：工廠校準(zhǔn)，工程師手動調(diào)節(jié)

對準(zhǔn)精度（濺射后）
線性對準(zhǔn)：典型值6μm，最大值10μm
旋轉(zhuǎn)對準(zhǔn)：0.001°到0.009°

夾盤
晶圓尺寸：100mm,150mm,200mm
夾盤材料：陽極氧化鋁或非陽極氧化鋁
夾盤厚度：20mm取決于晶圓和掩膜的厚度

蔭罩掩膜（客戶可定制蔭罩掩膜）
材料：硅、石英、玻璃、金屬、陶瓷
儀器尺寸：500mm x 250mm
安裝需求：用于對準(zhǔn)過程中用來觀察的顯微鏡、真空
注：可以根據(jù)用戶的需求進(jìn)行定制。

優(yōu)點(diǎn)：
精確和可重建性的PVD涂層構(gòu)建
用于PVD的減震夾盤
易用、對晶圓無損夾持機(jī)構(gòu)
由于真空夾持，可以在對準(zhǔn)的過程簡單操作
可以用于不同的晶圓尺寸
不需要安裝
低運(yùn)行成本