用于光刻的idonus UV-LED曝光系統(tǒng)

idonus提出了一種創(chuàng)新的紫外線照明系統(tǒng)，該系統(tǒng)基于大功率LED和高級均質(zhì)光學(xué)器件的使用。該產(chǎn)品可用于光致抗蝕劑曝光，適用于MEMS，微流體，光子學(xué)，半導(dǎo)體和光伏應(yīng)用中的各種基材和光致抗蝕劑。我們完整的紫外線照明產(chǎn)品線可滿足對最大300毫米寬（11.8英寸）的掩模和晶圓的光刻需求。可以設(shè)計定制的解決方案以滿足您的特定要求

LED的好處

直到最近，水銀弧光燈才是唯一能夠提供適用于UV光刻曝光的高強度光的光源。由于LED技術(shù)的進步，UV-LED已成為危險且耗能的汞燈的極具吸引力的替代品。

除了生態(tài)和安全方面，與傳統(tǒng)的汞燈相比，UV-LED的技術(shù)優(yōu)勢是眾多的，并且對光刻具有重要意義。UV-LED的最主要優(yōu)點是，它們能以一致的發(fā)射率運行，使用壽命非常長。結(jié)果，不需要日常校準(zhǔn)和維護。此外，通過提高能源效率，LED減少了發(fā)熱量，從而大大簡化了系統(tǒng)冷卻。

UV-LED技術(shù)的好處

• LED?使用壽命長，這意味著不再需要消耗品
• 無需每日校準(zhǔn)，即時穩(wěn)定的照明
• 即時開啟，僅在曝光期間開啟燈光，無需機械快門
• 低功耗
• 光譜窄：不會對基材造成不必要的加熱，并且可重復(fù)性更高
  
• 沒有維護費用

紫外線LED曝光系統(tǒng)

idonus已經(jīng)推出了完整的UV-LED曝光產(chǎn)品線。我們的系統(tǒng)將市場上最有效的UV-LED與高級微透鏡陣列集成在一起。它們完全組裝并在內(nèi)部進行控制。我們的設(shè)計采用全遠(yuǎn)心光學(xué)元件，可在整個曝光區(qū)域提供可重復(fù)且均勻的照明條件，即高度均勻且穩(wěn)定的強度，并且發(fā)散角很小。這種尖端的光學(xué)器件可確保整個基板完全均勻地曝光，從而生產(chǎn)出具有筆直側(cè)壁的固化光致抗蝕劑，并可以對具有微米級臨界尺寸的圖案進行精確的微結(jié)構(gòu)化。

性能表現(xiàn)

我們的UV-LED曝光系統(tǒng)有幾種標(biāo)準(zhǔn)配置，可以根據(jù)多種變化（例如，單個或混合波長）進行定制。作為特殊機器的制造商，idonus還可以根據(jù)客戶的要求開發(fā)完全定制的設(shè)備（例如，不同的曝光區(qū)域，改裝的設(shè)備外殼）。表“標(biāo)準(zhǔn)UV-LED曝光系統(tǒng)”中列出了我們產(chǎn)品的主要特性。在校準(zhǔn)過程中進行的典型測量如圖B所示。在可用的曝光區(qū)域中，輻照度不均勻度±（max-min）/（max + min）低于±3％。圖A所示的最大準(zhǔn)直角α是我們系統(tǒng)表征的另一個重要參數(shù)。圖C中顯示的數(shù)據(jù)是從對我們的一種模型進行的測量中提取的典型結(jié)果。為了評估α，測得的輻照度是準(zhǔn)直角的函數(shù)：α對應(yīng)于FWHM（半高全寬）。該閾值通常用于考慮有效地促進光刻膠照射的光能。

表：標(biāo)準(zhǔn)的UV-LED曝光系統(tǒng)???針對不同曝光區(qū)域進行了優(yōu)化的我們標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品的典型規(guī)格。