用于光刻的UV-LED exposure系統(tǒng)(UV-EXP系列)
UV-EXP系列產(chǎn)品是idonus提供的一種創(chuàng)新的紫外照明系統(tǒng)，基于高功率LED和高級(jí)均勻化光學(xué)元件。該產(chǎn)品線(xiàn)適用于光刻膠曝光（UV-LED光刻和固化），適用于MEMS、微流體、光子學(xué)、半導(dǎo)體和光伏應(yīng)用中使用的各種基板和光刻膠。我們的標(biāo)準(zhǔn)UV照明產(chǎn)品線(xiàn)可以滿(mǎn)足寬度達(dá)300毫米（11.8英寸）的掩模和晶圓光刻需求。
idonus可以設(shè)計(jì)定制解決方案，以滿(mǎn)足您的特定需求（例如，改裝掩模對(duì)準(zhǔn)器，為您的未來(lái)產(chǎn)品提供OEM服務(wù)）。
UV-LED exposure的好處包括：
1. 穩(wěn)定的照明，無(wú)需每天校準(zhǔn)。
2. 瞬間開(kāi)啟，僅在曝光時(shí)點(diǎn)亮，無(wú)需機(jī)械快門(mén)。
3. 長(zhǎng)壽命，無(wú)需更換耗材。
4. 窄譜：不會(huì)對(duì)基板產(chǎn)生不必要的加熱，過(guò)程更可重復(fù)。
5. 低功耗。
6. 無(wú)維護(hù)成本。
idonus的UV-LED曝光系統(tǒng)
idonus推出了一系列完整的UV-LED曝光產(chǎn)品。我們的系統(tǒng)集成了市場(chǎng)上最有效的UV-LED，配合高級(jí)微透鏡陣列。這些系統(tǒng)完全在內(nèi)部組裝和控制。我們的設(shè)計(jì)采用全遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)，能夠在整個(gè)曝光區(qū)域提供可重復(fù)和均勻的照明條件，即高度均勻和穩(wěn)定的強(qiáng)度，非常小的發(fā)散角。這一尖端光學(xué)技術(shù)確保了整個(gè)基板的完全均勻曝光，產(chǎn)生具有直立側(cè)壁的固化光刻膠，并且能夠精確微結(jié)構(gòu)化具有微米關(guān)鍵尺寸的圖案。
idonus的 UV-EXP的性能
idonus的UV-LED曝光系統(tǒng)提供多種標(biāo)準(zhǔn)配置，并可根據(jù)客戶(hù)的要求定制各種變體和選項(xiàng)（例如，單一波長(zhǎng)或混合波長(zhǎng)）。作為專(zhuān)用機(jī)器制造商，idonus還可以根據(jù)客戶(hù)的規(guī)格開(kāi)發(fā)完全定制的設(shè)備（例如，不同的曝光區(qū)域，適配的設(shè)備外殼）。我們產(chǎn)品的主要特性詳見(jiàn)”標(biāo)準(zhǔn)UV-LED曝光系統(tǒng)”表格。
在校準(zhǔn)過(guò)程中典型的測(cè)量結(jié)果如圖B所示。在可用的曝光區(qū)域內(nèi)，輻照度的非均勻性（最大-最小）/（最大+最小）小于3%。圖A中展示的最大準(zhǔn)直角度α是我們系統(tǒng)中系統(tǒng)性特征的另一個(gè)重要參數(shù)，我們進(jìn)行系統(tǒng)性的特征化。圖C顯示的數(shù)據(jù)是從我們其中一個(gè)型號(hào)的測(cè)量結(jié)果中提取的典型結(jié)果。為了評(píng)估α，輻照度作為準(zhǔn)直角度的函數(shù)進(jìn)行測(cè)量：α對(duì)應(yīng)于半高全寬（FWHM）。這個(gè)閾值通常用來(lái)考慮有效貢獻(xiàn)到光刻膠輻照的光能。根據(jù)我們曝光系統(tǒng)的性能，約95%的能量包含在準(zhǔn)直角度α內(nèi)。
