具有雙圖像顯微鏡的掩模對準系統(tǒng)

MAS + DIM

掩模對準器被設計用來精確對準掩模與基板。例如，使用遮光掩模可以實現無光刻的薄膜沉積。一旦晶圓在掩模下對準，兩個基板將被夾在雙夾具中。夾緊的雙夾具與基板可以被插入物理氣相沉積室進行蒸發(fā)。沉積完成后，雙夾具將被分開，基板可以取出。

除了遮光掩模外，Idonus 掩模對準器還具有廣泛的應用，例如：

– 遮光掩模
– 紫外光掩模
– 納米壓印
– 粘接對準

簡易性

具備真空夾持能力和三軸手動對準功能，使得這款掩模對準器非常易于使用。

靈活性

該對準器設計用于多種晶片尺寸和形狀，無論是標準還是非標準。idonus 根據您的需求定制夾具。

精準度

結合顯微鏡，可以實現最小 ± 5 微米的對準公差。idonus 提供自己的雙影像顯微鏡用于對準控制。用戶可以同時聚焦和觀察兩個對準位置，以簡化對準過程。