瑞士idonus掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)-具有雙圖像顯微鏡MAS+DIM

掩模對準(zhǔn)器被設(shè)計為將掩模與基板精確對準(zhǔn)。例如，使用蔭罩可以進(jìn)行無光刻的薄膜沉積。一旦晶片在掩模下對齊，兩個基板將被夾在雙卡盤中。然后，可以將帶有基板的夾緊雙卡盤插入PVD室進(jìn)行蒸發(fā)。沉積后，雙卡盤將被分離，基板可以取出。

除了蔭罩，idonus掩模對準(zhǔn)器還有廣泛的應(yīng)用，例如：

• 陰影遮蔽
• 紫外線遮蔽
• 納米壓印
• 粘合對齊
  以及更多。。。

簡單
真空夾緊能力和3軸手動對準(zhǔn)使這款掩模對準(zhǔn)器非常易于使用。
靈活性
該對準(zhǔn)器設(shè)計用于多種晶圓尺寸和形狀，無論是否標(biāo)準(zhǔn)。idonus根據(jù)您的需求生產(chǎn)卡盤。
精度
結(jié)合顯微鏡，可以實現(xiàn)最小±5μm的對準(zhǔn)公差。idonus提出了自己的雙像顯微鏡用于對準(zhǔn)控制。用戶可以同時聚焦和可視化兩個對齊位置，以簡化對齊過程。

idonus MAS掩模對準(zhǔn)器包含運行對準(zhǔn)過程所需的基本元素。

使用idonus雙圖像顯微鏡（DIM）可以實現(xiàn)±5μm的精確對準(zhǔn)。通過兩個攝像頭在PC上監(jiān)控對齊情況。該設(shè)備旨在與我們的掩模對準(zhǔn)器（即MAS+DIM系統(tǒng)）結(jié)合使用，但也可以作為獨立設(shè)備使用。

圖1-6顯示了蔭罩對齊需要完成的主要步驟。在步驟#6之后，堆疊組件已準(zhǔn)備好進(jìn)行下一工藝（例如PVD、濺射等）。
所有這些步驟，包括與DIM的對齊，都顯示在我們的MAS-DIM設(shè)備視頻演示中。