陰影掩模對準器旨在將掩模與基板精確對準。使用例如蔭罩允許進行無光刻的薄膜沉積。一旦晶圓在掩模下面對準，兩個基板將被夾在雙卡盤中。然后，可以將夾有基板的雙卡盤插入PVD室中進行蒸發。在沉積之后，將分離雙卡盤并且可以取出基板。
除了陰影遮罩之外，idonus遮罩對齊器還具有廣泛的應用，例如：
- 陰影遮罩
- 粘接對齊
- 和更多…
簡單
真空夾緊能力和3軸手動對準功能使該面罩對準器非常易于使用。
靈活性
對準器已設計為可與多種晶圓尺寸和形狀（標準與否）一起使用。Idonus可根據您的需要制造卡盤。
精確
與顯微鏡結合使用，可以實現最小±5 μm的對準公差。Idonus提出了他自己的雙圖像顯微鏡用于對準控制。用戶可以同時聚焦和可視化2個對齊位置，以簡化對齊過程。
使用Idonus雙圖像顯微鏡可實現+/- 5 μm的精確對準。通過兩個攝像機在PC上監視對齊。該設備旨在與我們的掩模對準儀結合使用，但也可以用作獨立設備。
