低露點(diǎn)發(fā)生器HumiSys LDP設(shè)計(jì)用于提供從正值到-90°C控制露點(diǎn)值的低流量氣體流。流量取決于使用的質(zhì)量流量控制器范圍，通常為0-200毫升/分鐘。這種復(fù)雜設(shè)計(jì)采用了多種水蒸氣生成技術(shù)。基于兩溫度法創(chuàng)建了一個(gè)具有明確定義和用戶可選擇露點(diǎn)值的“無限”加濕氣體源。雙階段的兩壓力和分流方法用于降低該源的水蒸氣濃度。輸出流可以輸送到各種可以保持大氣或真空條件的腔室中。使用質(zhì)量流量控制器和低死體積設(shè)計(jì)允許在輸出流中快速準(zhǔn)確地改變露點(diǎn)。
提供的基于Windows的軟件允許從電腦自動(dòng)控制儀器。在一個(gè)實(shí)驗(yàn)中可以聲明多達(dá)1000種不同的流量設(shè)置，并且可以生成不同的配置文件。所有傳感器信號(hào)和計(jì)算結(jié)果都記錄在相應(yīng)的文件中。為了快速設(shè)置和測(cè)試，還提供了使用前面板控制的手動(dòng)控制模式。
低露點(diǎn)發(fā)生器HumiSys LDP主要特征：
自動(dòng)/手動(dòng)操作
多功能多技術(shù)（四個(gè)MFC）設(shè)計(jì)
第一階段輸出的流量完全可變，露點(diǎn)可設(shè)定
第二階段輸出恒定流量，按聲明的MFC范圍百分比
輸出可用于加壓和真空條件
自動(dòng)從外部容器供水
低露點(diǎn)發(fā)生器HumiSys LDP提供三種輸出的可用性：
兩溫度輸出露點(diǎn)范圍：環(huán)境溫度至0°C（標(biāo)準(zhǔn)版本）
第一階段稀釋輸出：露點(diǎn)低至-60°C，（在101.325 kPa下，取決于質(zhì)量流量控制器范圍）
第二階段稀釋輸出：露點(diǎn)低至-90°C，（在101.325 kPa下，取決于質(zhì)量流量控制器范圍和氣體干燥度）
低露點(diǎn)發(fā)生器HumiSys LDP技術(shù)優(yōu)勢(shì)：
適用于需要低流量和廣泛露點(diǎn)范圍的應(yīng)用，如小樣品室（光譜儀、顯微鏡臺(tái)等），可在大氣壓或真空下操作
允許快速掃描露點(diǎn)范圍（光譜學(xué)）
非?？焖俚臐穸炔竭M(jìn)變化
輸出流的高穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性
適用于低露點(diǎn)傳感器測(cè)試
使用低壓干燥氣源
占地面積小，能耗低
