美國InstruQuest 的高性能相對濕度發生器，設計為易于與其他分析儀器接口，可在精確控制的濕度條件下進行測量。這些發生器提供多種RH控制模式，具體取決于傳感器的選擇和位置。使用質量流量控制器（MFC）實現快速響應。
美國InstruQuest 相對濕度發生器主要型號：
HumiSys HF (高流量相對濕度發生器)
HumiSys HF 相對濕度發生器采用分流技術，并利用兩個質量流量控制器實現快速響應。在主要操作模式下，一個濕度探頭用于RH控制，通常放置在用戶的腔室內。第二個濕度傳感器探頭可以放置在任何用戶定義的位置，用于驗證濕度和溫度的均勻性。如果濕度探頭無法安裝在用戶腔室內，可以將一個微型濕度探頭放置在HumiSys HF發生器內，并通過（可選的）溫度探頭（基于RTD）監測用戶腔室的溫度。
HumiSys LF (低流量相對濕度發生器)
HumiSys LF 是一款多功能且全自動相對濕度發生器，專為低流速設計，易于與其他具有相對小樣品腔室的分析設備（如X射線設備、TGA、DMA、IR分析儀等）接口。
HumiSys MF (中等流量相對濕度發生器)
HumiSys MF 中等流量相對濕度發生器是HumiSys HF 高流量相對濕度發生器的中等流量版本。基于帕爾帖冷卻系統，能夠增強低RH范圍，特別適用于需要低相對濕度的加濕流的環境溫度下的應用。可以輕松適應自定義RH需求。設計為易于與其他分析設備接口，適用于需要比HumiSys LF（低流量）或V-Gen RH發生器更高流量的應用。
HumiSys XR (擴展范圍)
HumiSys XR 濕度發生器具有全自動和手動模式，旨在擴展濕度生成的全范圍至0°C，并在零度以下區域提供比其他常見濕度發生器更大的RH范圍。采用兩溫度和分流技術的組合。在冷凝器外殼中嵌入精密RH探頭，用于控制來自第一階段兩溫度法的加濕流的溫度，從而在第二階段的分流技術中生成非常低的露點。外部濕度探頭和外部溫度探頭（基于RTD）非常有助于與其他分析儀器的簡便接口。
HumiSys PPM是HumiSys HF高流量相對濕度發生器的新版本，專為在低ppm至數千ppm區域內快速生成痕量濕氣而開發。采用三重質量流量控制器設計，結合增加的冷卻能力（佩爾帖模塊），可以在通常使用典型的分流技術（兩個氣體流量控制器）難以實現的低濕度區域運行。兩個低流速氣體流量控制器和一個濕度探頭用于生成已知濕度、溫度和流速的加濕流。第三個高流速氣體流量控制器用于稀釋加濕流。
IQI相對濕度發生器的主要應用：
控制的相對濕度源，用于研究不同濕度、溫度和壓力條件下的過程
評估腔室中RH和溫度梯度的分布
重量法吸濕系統
用于不同濕度水平下過濾器、床層的前向流方法
測量水蒸氣傳輸速率（WVTR）的儀器
在流動條件下維持環境腔內精確的濕度條件
RH源用于校準和驗證相對濕度傳感器
與較大分析設置（DMA、DMTA、TGA、X射線衍射儀等）的簡便接口
通常用于大氣壓以上1.5巴（25 psi）的壓力應用
