Kimball Physics 離子槍系統或離子源用于表面物理、空間物理、真空物理、電荷中和、檢測校準、二次離子質譜和 MBE 離子注入。
操作范圍
- 能量范圍：10eV 至 20 keV
- 光束電流范圍：1 nA 至 2 μA
- 光斑尺寸范圍：500 μm 至 25 mm
多面性
- 靈活的控制器：獨立的光纖控制和計量功能，如離子能量、源、電子能量、場控制、提取、聚焦、X – Y 偏轉和電子電流控制。
- 堿金屬離子源的選擇允許不同的離子種類。
性能
- 束流穩定性：對于堿金屬源，使用發射電流控制時每小時 ±1.0%，或在沒有 ECC 的情況下預熱后每小時 ±10%。
- 能量穩定性：±每小時 0.01%，±滿負荷時每 8 小時 0.02%。
運營能力
- 快速電容光束或雙網格脈沖
- 偏轉 / 光柵
- 槍式法拉第杯
