Kimball Physics離子槍系統(tǒng)或離子源用于表面物理、空間物理、真空物理、電荷中和、檢測校準(zhǔn)、二次離子質(zhì)譜和MBE的離子注入。
性能
- 能量范圍:10千電子伏到20千電子伏
- 束流范圍:1 nA至2 μA
- 斑點(diǎn)尺寸范圍:500微米到25毫米
功能
- 靈活的控制器:獨(dú)立的光纖控制和功能計(jì)量，如離子能量、源、電子能量、場控制、提取、聚焦、X-Y偏轉(zhuǎn)和電子流控制。
- 堿金屬離子源選擇允許不同的離子種類。
- 束流穩(wěn)定性:有發(fā)射電流控制時為每小時1.0%，預(yù)熱后為每小時10%，無堿金屬源ECC。
- 能量穩(wěn)定性:滿輸出時，每小時0.01%，每8小時0.02%。
- 快速電容束或雙柵極脈沖
- 偏轉(zhuǎn)/光柵掃描
- 槍裝法拉第杯
描述
能量范圍:50電子伏至5千電子伏
電子束電流:1 nA至2 A
斑點(diǎn)尺寸:?<1 mm to 20 mm
工作距離:10毫米至200毫米
