Kimball Physics離子槍系統，或離子源，廣泛應用于表面物理學、空間物理學、真空物理學、電荷中和、檢測校準、二次離子質譜（SIMS）和分子束外延（MBE）的離子注入等領域。
工作范圍
- 能量范圍： 10 eV 至 20 keV
- 束流電流范圍： 1 nA 至 2 μA
- 光斑尺寸范圍： 500 μm 至 25 mm
多功能性
- 靈活的控制器： 提供獨立的光纖控制和儀表功能，如離子能量、源、電子能量、場控制、提取、聚焦、X-Y 偏轉和電子電流控制。
- 多種堿金屬離子源可選： 允許選擇不同的離子種類。
性能
- 束流電流穩定性： 堿金屬源下，使用發射電流控制時穩定性為 ±1.0% 每小時；未使用 ECC 的情況下為 ±10% 每小時（加熱后）。
- 能量穩定性： 輸出全功率時，能量穩定性為 ±0.01% 每小時，±0.02% 每 8 小時。
操作能力
- 快速電容束或雙格柵脈沖
- 偏轉/掃描
- 槍裝法拉第杯
- 能量范圍： 50 eV 至 5 keV
- 束流電流： 1 nA 至 2 μA
- 光斑尺寸： <1 mm 至 20 mm
- 工作距離： 10 mm 至 200 mm
- 能量范圍： 10 eV 至 1 keV
- 束流電流： 1 nA 至 100 nA
- 光斑尺寸： 1 mm 至 5 mm
- 工作距離： 10 mm 至 200 mm
- 安裝方式： 2.75″CF 或可拆卸式
- 能量范圍： 1 keV 至 20 keV
- 束流電流： 1 nA 至 2 μA
- 光斑尺寸： 500 μm 至 25 mm
- 工作距離： 100 mm 至 1000 mm
