美國Kimball電子槍 FRA-2X1-2 / EGPS-1011

美國Kimball電子槍 FRA-2X1-2 / EGPS-1011

Kimball Physics電子槍的主要供應商,這些電子槍設計用于各種超高真空(UHV)表面物理學,空間物理學和處理應用程序。噴槍可以聚焦成小光斑,用于X射線生產(chǎn),焊接和RHEED等應用;或用于泛光束,用于電荷中和,電子束洗滌,空間模擬和輻射損傷研究。

操作范圍

  • 能量范圍:1 eV至100 keV
  • 光束電流范圍:1 nA至20 mA
  • 光斑尺寸范圍:15μm(聚焦柱)至500+ mm(泛光燈)

性能

  • 束流電流穩(wěn)定性:反饋穩(wěn)定的發(fā)射電流控制;每小時優(yōu)于±0.1%
  • 能量穩(wěn)定性:每小時±0.01%,全輸出時每8小時±0.02%,以最大程度地減少色差
方便

  • 客戶可更換的點火裝置
  • 全面運行期間的機械對準
  • 可存儲的控制設置
  • 電腦遙控器/計量

運作能力

能量范圍:?5 eV至1k eV
光束電流:?1 nA至400 μA光
點大小:?20 mm至50 mm
安裝:?2?CF或未安裝


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