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美國Kimball Physics,電子槍系統,中等能量（最大 30 keV),EFG-7 / EGPS-2017
Kimball Physics 是電子槍（束）系統的領先供應商，其設計適用于各種超高真空 （UHV） 表面物理、空間物理和加工應用。噴槍可以聚焦小光斑尺寸，用于 X 射線生產、焊接和 RHED 等應用;或用于泛光束，用于電荷中和、電子束擦洗、空間模擬和輻射損傷研究。
操作范圍
- 能量范圍：1 eV 至 100 keV
- 光束電流范圍：1 nA 至 20 mA
- 光斑尺寸范圍：15 μm（聚焦柱）至 500+ mm（泛光光束）
性能
- 束流穩定性：反饋穩定發射電流控制;優于每小時 ± 0.1%
- 能量穩定性：±每小時 0.01%，全輸出時每 8 小時± 0.02%，以最大限度地減少色差
方便
- 客戶可更換的點火裝置
- 全運行期間的機械對中
- 可存儲控件設置
- 電腦遙控器/計量
運營能力
型號 #： EFG-7 EGPS-2017
描述
聚焦或均勻的廣角低能電子束
50 eV 至 5 keV
應用：
- 表面物理研究
- 真空物理實驗
- 電荷中和
- 電子解吸
- 表面清理
- 熒光粉測試
- 電離實驗
- 半導體加工
功能/選項：
- 參數可控性廣
- 泛光光束或窄角光束
- 靜電聚焦
- 偏轉、光柵、脈沖
- 可拆卸噴槍
- 電腦 / 遙控器
能量范圍：50 eV 至 5k eV
光束電流：1 nA 至 100 μA
光斑尺寸：1 mm 至 100 mm
安裝：2.75 英寸（23/4 英寸）CF，可拆卸選項
特點/選項：泛光光束或窄角光束、靜電聚焦、偏轉、光柵、脈沖
Kimball Physics EFG-7 電子槍及其匹配的 EGPS-2017 電源旨在用于各種超高真空 （UHV） 物理實驗、表面物理實驗和加工應用。它是一個完整的子系統，隨時可以連接和打開。光束能量、光束電流和光斑尺寸可在很寬的范圍內獨立調節。
EFG-7 電子槍使用難熔金屬陰極產生均勻的泛光光束。槍式設計允許產生低能量和極低電流的光束。5 keV 型 EFG-7 可產生 1 nA 至 100 μA 的束流和 50 eV 至 5 keV 的能量。
定心偏轉、光柵和脈沖均作為選項提供。由于該設計已優化為泛洪槍，并使用圓柱形 4 極偏轉器，因此當光束聚焦到一個小點時，偏轉像差可能會很嚴重。
全程采用 UHV 技術。該噴槍可以在 10 級真空中運行-11torr 最多 10-5torr 用于標準 Ta 盤陰極。電子槍可在去除電纜后烘烤至 350°C。
