美國Kimball Physics,電子槍系統,中等能量(最大 30 keV),EGH-6210 EGPS-6210
Kimball Physics 是電子槍(束)系統的領先供應商,其設計適用于各種超高真空 (UHV) 表面物理、空間物理和加工應用。噴槍可以聚焦小光斑尺寸,用于 X 射線生產、焊接和 RHED 等應用;或用于泛光束,用于電荷中和、電子束擦洗、空間模擬和輻射損傷研究。
操作范圍
- 能量范圍:1 eV 至 100 keV
- 光束電流范圍:1 nA 至 20 mA
- 光斑尺寸范圍:15 μm(聚焦柱)至 500+ mm(泛光光束)
性能
- 束流穩定性:反饋穩定發射電流控制;優于每小時 ± 0.1%
- 能量穩定性:±每小時 0.01%,全輸出時每 8 小時± 0.02%,以最大限度地減少色差
方便
- 客戶可更換的點火裝置
- 全運行期間的機械對中
- 可存儲控件設置
- 電腦遙控器/計量
運營能力
描述
可聚焦、高能電子束,光斑尺寸小至 50 μm
1 keV 至 60 keV
應用:
- 一般真空物理學
- 輻射研究
- 地表轟炸
- 半導體研究
- 生物標本輻射
- X 射線生成
- 血漿激發
- 熒光研究
- 表面物理研究
功能/選項:
- 小光斑尺寸低至 50 μm
- 中等電流束至 5 mA
- 高達 10 mA 的高電流束
- 靜磁聚焦
- 靜磁光束整形(可選)
- 靜磁偏轉
- 脈沖能力
- 運行期間的內部對準
- 差速泵送
用戶可更換的點火裝置
能量范圍:1 keV 至 60 keV
光束電流:10 μA 至 5 mA
光斑尺寸:50 μm 至 10 mm
安裝:2.75 英寸(23/4)CF
Kimball Physics EGH-6210 電子槍及其匹配的 EGPS-6210 電源是一個完整的子系統,可連接到用戶的真空系統并打開。它可以在非常廣泛的能量、電流和功率范圍內傳遞電子。EGH-6210 可應用于空間材料測試、輻射研究、半導體研究、X 射線產生和等離子體激發。
該槍使用單晶六硼化鑭 (LaB6) 陰極產生高能、可聚焦的小光斑電子束。束流能量和束流都可以在很寬的范圍內獨立調節;能量從 1 keV 到 60 keV,電流從 10 μA 到 5 mA。電子束可以通過控制網格的輸入信號進行脈沖傳輸。
噴槍的可調節光學元件可以適應不同的發散和一系列工作距離,適用于各種應用。磁性聚焦透鏡可以將光斑尺寸從 10 mm 變為 50 μm。磁性定心和可選的整形線圈提供額外的電子束控制,允許用戶偏轉和塑造電子束。整形通常會產生橢圓形梁,其兩個軸都可以獨立壓縮或延伸。靜磁聚焦透鏡和偏轉整形四極桿都能產生低像差的結果。此外,陰極到陽極的間距可在內部調節以改變磁長。
該噴槍具有可調節的陰極饋通組件,允許點火裝置相對于陽極和色譜柱進行機械對準。這種對準可以在噴槍在光束打開的情況下運行時實時完成。