美國Kimball Physics,電子槍系統,中等能量（最大 30 keV),EGH-8201 / EGPS-8201
Kimball Physics 是電子槍（束）系統的領先供應商，其設計適用于各種超高真空 （UHV） 表面物理、空間物理和加工應用。噴槍可以聚焦小光斑尺寸，用于 X 射線生產、焊接和 RHED 等應用;或用于泛光束，用于電荷中和、電子束擦洗、空間模擬和輻射損傷研究。
操作范圍
- 能量范圍：1 eV 至 100 keV
- 光束電流范圍：1 nA 至 20 mA
- 光斑尺寸范圍：15 μm（聚焦柱）至 500+ mm（泛光光束）
性能
- 束流穩定性：反饋穩定發射電流控制;優于每小時 ± 0.1%
- 能量穩定性：±每小時 0.01%，全輸出時每 8 小時± 0.02%，以最大限度地減少色差
方便
- 客戶可更換的點火裝置
- 全運行期間的機械對中
- 可存儲控件設置
- 電腦遙控器/計量
運營能力
描述
可聚焦、高能電子束，具有高達 20 mA 脈沖的高電流密度
10 keV 至 100 keV
應用：
- 一般真空物理學
- 輻射研究
- 地表轟炸
- 半導體研究
- 生物標本照射
- X 射線生成
- 血漿激發
- 熒光研究
- 表面物理研究
功能/選項：
- 高光束電流，高達 20 mA 脈沖
- 光斑尺寸低至 1 mm
- 靜磁聚焦
- 靜磁偏轉（可選）
- 脈沖能力
- 運行期間的內部對準
- 電腦 / 遙控器
- 用戶可更換的點火裝置
- 差速泵送
能量范圍：10 keV 至 100 keV
束流：10 nA 至 1 mA（脈沖至 20 mA）
光斑尺寸：1 mm 至 100 mm
安裝：6.0“ CF
Kimball Physics EGH-8201 電子槍及其匹配的 EGPS-8201 電源是一個完整的子系統，可以連接到用戶的真空系統并打開。它可以在非常廣泛的能量、電流和功率范圍內傳遞電子。EGH-8201 具有大電流、脈沖應用，可用于空間材料測試、輻射研究、半導體研究、X 射線生成和等離子體激發。
該槍使用難熔金屬盤陰極產生高能量、大電流、可聚焦的電子束。束流能量和束流都可以在很寬的范圍內獨立調節;能量從 10 keV 到 100 keV，電流從 10 nA 到 1 mA 和高達 20 mA 的脈沖。電子束通過輸入信號向控制網格發射。
噴槍的可調節光學元件可以適應不同的發散和不同的工作距離。光斑尺寸可以從 1 mm 到 100 mm 不等。磁性聚焦透鏡和磁定心偏轉功能提供低像差的光束控制。此外，陰極到陽極的間距可在內部調節以改變磁長。
該噴槍具有可調節的陰極饋通組件，允許點火裝置相對于陽極和色譜柱進行機械對準。這種對準可以在噴槍在光束打開的情況下運行時實時完成。
