美國Kimball Physics,電子槍系統,中等能量（最大 30 keV),EGL-2022 / EGPS-2022
Kimball Physics 是電子槍（束）系統的領先供應商，其設計適用于各種超高真空 （UHV） 表面物理、空間物理和加工應用。噴槍可以聚焦小光斑尺寸，用于 X 射線生產、焊接和 RHED 等應用;或用于泛光束，用于電荷中和、電子束擦洗、空間模擬和輻射損傷研究。
操作范圍
- 能量范圍：1 eV 至 100 keV
- 光束電流范圍：1 nA 至 20 mA
- 光斑尺寸范圍：15 μm（聚焦柱）至 500+ mm（泛光光束）
性能
- 束流穩定性：反饋穩定發射電流控制;優于每小時 ± 0.1%
- 能量穩定性：±每小時 0.01%，全輸出時每 8 小時± 0.02%，以最大限度地減少色差
方便
- 客戶可更換的點火裝置
- 全運行期間的機械對中
- 可存儲控件設置
- 電腦遙控器/計量
運營能力
描述
能量掃描：恒定束流和近似恒定光斑尺寸的電子束
50 eV 至 5 keV
應用：
- 表面物理研究
- 電離實驗
- 電荷中和
功能/選項：
- 能量范圍廣
- Constant Beam Current
- 恒定光斑大小
- 變焦鏡頭對焦
- 高速脈沖
- 偏轉、柵格化
- 電腦 / 遙控器
能量范圍：50 eV 至 5 keV
光束電流：1 nA 至 100 μA
光斑尺寸：1 mm 至 10 mm
安裝：2.75“CF
特點/選項：用于能量掃描、偏轉、光柵、高速脈沖的變焦鏡頭聚焦
Kimball Physics EGL-2022 電子槍及其配套的 EGPS-2022 電源可應用于各種表面物理、電離、電荷中和和其他真空物理研究。它是一個完整的子系統，隨時可以連接到用戶的真空系統并啟動。
光束能量、光束電流和光斑尺寸可在很寬的范圍內獨立調節。能量從 50 eV 到 5 keV 不等，束流從 1 nA 到 100 μA。通過使用多級和計算機設計的電子變焦鏡頭，在能量的兩個數量級變化上保持恒定的束流，光斑尺寸也大致恒定。電子槍使用單電位陰極產生低能量擴散光束。
槍設計可以包括一個正偏置的加速度網格，以增強發射和準直光束。通常對此網格單元施加負電位，以準直光束、抑制發射并切斷光束。
全程采用 UHV 技術。該噴槍可以在 10 級真空中運行-11torr 最多 10-5torr 用于標準 Ta 盤陰極。電子槍可在 350°C 下工作，無需電纜。
通過打開上方“資源”選項卡中的詳細 EGL-2022/EGPS-2022 PDF 規范文檔了解更多信息。
