美國Kimball Physics,電子槍系統,低能耗（最大 5 keV),EFG-7 / EGPS-2017
Kimball Physics?電子槍（束流）系統通常包括一個匹配的電源，以提供完整的子系統，該子系統可以連接到用戶的真空硬件并打開。
許多系統上的束流能量、束流和光斑大小都可以在其寬范圍內獨立調節，并且可以使用可選的 Labview 進行控制TM計算機接口。
我們的大多數系統在真空條件下都兼容 UHV（超高真空），最高可達 10-11托。
根據系統的不同，可以使用各種陰極選項，包括：
Kimball Physics 的產品已經發展成為范圍廣泛的電子束系統，我們將其武斷地描述為低能量（高達 5 keV）、中等能量（高達 30 keV）和高能量（高達 100 keV）系統。許多系統都是從定制項目中誕生的，這仍然是我們關注的很大一部分。
低能耗系統，能量范圍為 1 eV 至 5 keV，電流范圍為 1 nA 至 2 mA，光斑尺寸為 0.5 mm 至 100 mm。
下表提供了電子槍系統規格以及每個低能電子槍系統的典型應用和功能的比較。
?EFG-7 EGPS-2017描述
描述
聚焦或均勻的廣角低能電子束
50 eV 至 5 keV
應用：
- 表面物理研究
- 真空物理實驗
- 電荷中和
- 電子解吸
- 表面清理
- 熒光粉測試
- 電離實驗
- 半導體加工
功能/選項：
- 參數可控性廣
- 泛光光束或窄角光束
- 靜電聚焦
- 偏轉、光柵、脈沖
- 可拆卸噴槍
- 電腦 / 遙控器
能量范圍：50 eV 至 5k eV
光束電流：1 nA 至 100 μA
光斑尺寸：1 mm 至 100 mm
安裝：2.75 英寸（23/4 英寸）CF，可拆卸選項
特點/選項：泛光光束或窄角光束、靜電聚焦、偏轉、光柵、脈沖
Kimball Physics EFG-7 電子槍及其匹配的 EGPS-2017 電源旨在用于各種超高真空 （UHV） 物理實驗、表面物理實驗和加工應用。它是一個完整的子系統，隨時可以連接和打開。光束能量、光束電流和光斑尺寸可在很寬的范圍內獨立調節。
EFG-7 電子槍使用難熔金屬陰極產生均勻的泛光光束。槍式設計允許產生低能量和極低電流的光束。5 keV 型 EFG-7 可產生 1 nA 至 100 μA 的束流和 50 eV 至 5 keV 的能量。
定心偏轉、光柵和脈沖均作為選項提供。由于該設計已優化為泛洪槍，并使用圓柱形 4 極偏轉器，因此當光束聚焦到一個小點時，偏轉像差可能會很嚴重。
全程采用 UHV 技術。該噴槍可以在 10 級真空中運行-11torr 最多 10-5torr 用于標準 Ta 盤陰極。電子槍可在去除電纜后烘烤至 350°C。
