美國Kimball Physics,電子槍系統,高能量（最大 100 keV）,EGH-6210 / EGPS-6210
Kimball Physics?電子槍（束流）系統通常包括一個匹配的電源，以提供完整的子系統，該子系統可以連接到用戶的真空硬件并打開。
許多系統上的束流能量、束流和光斑大小都可以在其寬范圍內獨立調節，并且可以使用可選的 Labview 進行控制TM計算機接口。
我們的大多數系統在真空條件下都兼容 UHV（超高真空），最高可達 10-11托。根據系統的不同，可以使用各種陰極選項，包括：
Kimball Physics 的產品已經發展成為范圍廣泛的電子束系統，我們將其武斷地描述為低能量（高達 5 keV）、中等能量（高達 30 keV）和高能量（高達 100 keV）系統。許多系統都是從定制項目中誕生的，這仍然是我們關注的很大一部分。
高能系統，能量范圍為 1 keV 至 100 keV，電流范圍為 1 nA 至 2 mA，光斑尺寸范圍為 50 微米至 500 mm。
下表提供了電子槍系統規格以及每個高能電子槍系統的典型應用和功能的比較。
高能電子槍系統 （< 100 keV）
描述
可聚焦、高能電子束，光斑尺寸小至 50 μm
1 keV 至 60 keV
應用：
- 一般真空物理學
- 輻射研究
- 地表轟炸
- 半導體研究
- 生物標本輻射
- X 射線生成
- 血漿激發
- 熒光研究
- 表面物理研究
功能/選項：
- 小光斑尺寸低至 50 μm
- 中等電流束至 5 mA
- 高達 10 mA 的高電流束
- 靜磁聚焦
- 靜磁光束整形（可選）
- 靜磁偏轉
- 脈沖能力
- 運行期間的內部對準
- 差速泵送
用戶可更換的點火裝置
能量范圍：1 keV 至 60 keV
光束電流：10 μA 至 5 mA
光斑尺寸：50 μm 至 10 mm
安裝：2.75 英寸（23/4）CF
Kimball Physics EGH-6210 電子槍及其匹配的 EGPS-6210 電源是一個完整的子系統，可連接到用戶的真空系統并打開。它可以在非常廣泛的能量、電流和功率范圍內傳遞電子。EGH-6210 可應用于空間材料測試、輻射研究、半導體研究、X 射線產生和等離子體激發。
該槍使用單晶六硼化鑭 （LaB6） 陰極產生高能、可聚焦的小光斑電子束。束流能量和束流都可以在很寬的范圍內獨立調節;能量從 1 keV 到 60 keV，電流從 10 μA 到 5 mA。電子束可以通過控制網格的輸入信號進行脈沖傳輸。
噴槍的可調節光學元件可以適應不同的發散和一系列工作距離，適用于各種應用。磁性聚焦透鏡可以將光斑尺寸從 10 mm 變為 50 μm。磁性定心和可選的整形線圈提供額外的電子束控制，允許用戶偏轉和塑造電子束。整形通常會產生橢圓形梁，其兩個軸都可以獨立壓縮或延伸。靜磁聚焦透鏡和偏轉整形四極桿都能產生低像差的結果。此外，陰極到陽極的間距可在內部調節以改變磁長。
該噴槍具有可調節的陰極饋通組件，允許點火裝置相對于陽極和色譜柱進行機械對準。這種對準可以在噴槍在光束打開的情況下運行時實時完成。
