美國Kimball Physics,電子槍系統,高能量（最大 100 keV）,EGH-8201 / EGPS-8201
Kimball Physics?電子槍（束流）系統通常包括一個匹配的電源，以提供完整的子系統，該子系統可以連接到用戶的真空硬件并打開。
許多系統上的束流能量、束流和光斑大小都可以在其寬范圍內獨立調節，并且可以使用可選的 Labview 進行控制TM計算機接口。
我們的大多數系統在真空條件下都兼容 UHV（超高真空），最高可達 10-11托。根據系統的不同，可以使用各種陰極選項，包括：
1，氧化鋇盤（BaO，低光，低能量擴散，最小真空度 1×10-7托爾）
2，釔涂層銥片 （Y2O3銥，堅固耐用，真空度高達 10-4Torr，可能在短暫的真空損失中幸存下來）
3，鉭盤陰極
4，單晶六硼化鑭?（LaB6， 小光斑， 高亮度， 最小真空度 1×10-7托爾）
Kimball Physics 的產品已經發展成為范圍廣泛的電子束系統，我們將其武斷地描述為低能量（高達 5 keV）、中等能量（高達 30 keV）和高能量（高達 100 keV）系統。許多系統都是從定制項目中誕生的，這仍然是我們關注的很大一部分。
高能系統，能量范圍為 1 keV 至 100 keV，電流范圍為 1 nA 至 2 mA，光斑尺寸范圍為 50 微米至 500 mm。
下表提供了電子槍系統規格以及每個高能電子槍系統的典型應用和功能的比較。
高能電子槍系統 （< 100 keV）
描述
可聚焦、高能電子束，具有高達 20 mA 脈沖的高電流密度
10 keV 至 100 keV
應用：
- 一般真空物理學
- 輻射研究
- 地表轟炸
- 半導體研究
- 生物標本照射
- X 射線生成
- 血漿激發
- 熒光研究
- 表面物理研究
功能/選項：
- 高光束電流，高達 20 mA 脈沖
- 光斑尺寸低至 1 mm
- 靜磁聚焦
- 靜磁偏轉（可選）
- 脈沖能力
- 運行期間的內部對準
- 電腦 / 遙控器
- 用戶可更換的點火裝置
- 差速泵送
能量范圍：10 keV 至 100 keV
束流：10 nA 至 1 mA（脈沖至 20 mA）
光斑尺寸：1 mm 至 100 mm
安裝：6.0“ CF
Kimball Physics EGH-8201 電子槍及其匹配的 EGPS-8201 電源是一個完整的子系統，可以連接到用戶的真空系統并打開。它可以在非常廣泛的能量、電流和功率范圍內傳遞電子。EGH-8201 具有大電流、脈沖應用，可用于空間材料測試、輻射研究、半導體研究、X 射線生成和等離子體激發。
該槍使用難熔金屬盤陰極產生高能量、大電流、可聚焦的電子束。束流能量和束流都可以在很寬的范圍內獨立調節;能量從 10 keV 到 100 keV，電流從 10 nA 到 1 mA 和高達 20 mA 的脈沖。電子束通過輸入信號向控制網格發射。
噴槍的可調節光學元件可以適應不同的發散和不同的工作距離。光斑尺寸可以從 1 mm 到 100 mm 不等。磁性聚焦透鏡和磁定心偏轉功能提供低像差的光束控制。此外，陰極到陽極的間距可在內部調節以改變磁長。
該噴槍具有可調節的陰極饋通組件，允許點火裝置相對于陽極和色譜柱進行機械對準。這種對準可以在噴槍在光束打開的情況下運行時實時完成。
