美國Kimball Physics,電子槍系統,中等能量（最大 30 keV),EGH-8105 / EGPS-8105
Kimball Physics 是電子槍（束）系統的領先供應商，其設計適用于各種超高真空 （UHV） 表面物理、空間物理和加工應用。噴槍可以聚焦小光斑尺寸，用于 X 射線生產、焊接和 RHED 等應用;或用于泛光束，用于電荷中和、電子束擦洗、空間模擬和輻射損傷研究。
操作范圍
- 能量范圍：1 eV 至 100 keV
- 光束電流范圍：1 nA 至 20 mA
- 光斑尺寸范圍：15 μm（聚焦柱）至 500+ mm（泛光光束）
性能
- 束流穩定性：反饋穩定發射電流控制;優于每小時 ± 0.1%
- 能量穩定性：±每小時 0.01%，全輸出時每 8 小時± 0.02%，以最大限度地減少色差
方便
- 客戶可更換的點火裝置
- 全運行期間的機械對中
- 可存儲控件設置
- 電腦遙控器/計量
運營能力
1 keV 至 100 keV
應用：
功能/選項：
- 均勻泛束
- 通過束流洗滌實現均勻光斑尺寸
- 靜電聚焦
- 儀表端口（2個1.33英寸）
- 運行期間的內部對準
- 用戶可更換的點火裝置
- 6英寸 CF 法蘭安裝
- UHV 技術和可烘烤
- 電腦/遙控器操作
- LabVIEW™ 電腦/編程接口
- 磁偏轉
- 脈沖和光柵掃描
- 能量范圍：1 keV 至 100 keV
- 束流：50 nA 至 100 μA
- 光斑尺寸：10 mm 至 500+ mm
- 安裝：6.0 英寸 CF 法蘭
Kimball Physics EGH-8105 電子槍 及其配套的 EGPS-8105 電源 是一個完整的子系統，準備好連接到用戶的真空系統并啟動。它可以在廣泛的能量、電流和功率范圍內發射電子。EGH-8105 是一款高功率、可聚焦的泛束槍，適用于航天器材料測試以及其他表面物理和一般真空物理應用。
這是一個高能量、可聚焦的泛束電子束系統，電子束的能量和電流都可以在很大的范圍內獨立調節。可以實現從 1 keV 到 100 keV 的能量和從皮安培 (pA) 到毫安培 (mA) 的電流。電子束可以通過輸入信號到控制柵極進行脈沖調制。
槍的可調光學系統可以適應不同的發散角和工作距離。磁束洗滌選項可顯著提高束流的均勻性。靜電聚焦透鏡可以控制泛束的光斑尺寸，通常在數十厘米范圍內。然而，作為泛束槍，光斑尺寸還部分取決于柵極、陽極和工作距離。
該電子槍配備了可調節的陰極饋通組件，允許在運行過程中對點火裝置相對于陽極和電柱的機械對準。這種對準可以在電子槍以全電壓運行且束流開啟的情況下實時進行。點火裝置（包括陰極、陰極安裝架和 Wehnelt 孔徑）是用戶可更換的，無需將電子槍從真空室中移除。使用過的點火裝置可以返回工廠進行翻新。
