美國 Kimball Physics 電子槍 電子束發生系統 EMG-4210 EGPS-4210

描述：
可聚焦高能電子束，光斑尺寸小至100μm
1keV至30keV

應用：
普通真空物理學
輻射研究
地面轟炸
半導體研究
X射線生成
等離子體激發
熒光研究
表面物理研究

功能/選項：
光斑尺寸低至100μm
束電流高達5mA
靜磁聚焦
可選的靜磁束整形
靜磁偏轉
脈沖能力
操作過程中的內部對齊
用戶可更換的射擊裝置

能量范圍：1keV至30keV
束流：10μA至5mA*
光斑尺寸：100μm至10 mm
安裝：2.75英寸（2?）CF
*更高的電流選項可用。

帶有匹配EGPS-4210電源的EMG-4210電子槍是一個完整的子系統，可以連接到用戶的真空系統。它可以在50毫米至1000毫米的工作距離內，在廣泛的能量、電流和功率范圍內輸送電子。磁性定心和可選的整形線圈提供了額外的束控制，使用戶能夠偏轉和整形電子束。應用包括空間材料測試、輻射研究、半導體研究、x射線產生和等離子體激發。
電子槍系統使用單晶六硼化鑭（LaB6）陰極來產生高能、可聚焦、小點電子束。束能量和束電流都可以在寬范圍內獨立調節，能量從1keV到30keV，電流從10μA到5mA。電子束可以通過控制柵極的輸入信號進行脈沖。

槍的可調光學元件可以適應不同的發散和一系列的工作距離，適用于各種應用。磁聚焦透鏡的光斑尺寸可以從10毫米到100微米不等。磁性定心和可選的整形線圈提供了額外的束控制，允許用戶偏轉和整形電子束。整形通常會產生橢圓光束，其中兩個軸都可以獨立壓縮或延伸。此外，陰極到陽極的間距可以在內部調節，以改變導電性。
該槍具有可調節的陰極饋通組件，允許點火單元相對于陽極和柱進行機械對準。這種對準可以在槍在光束打開的情況下實時完成。