應(yīng)用:
- 表面物理研究
- 真空物理實(shí)驗(yàn)
- 電荷中和
- 電子解吸
- 表面清理
- 熒光粉測試
- 電離實(shí)驗(yàn)
- 半導(dǎo)體加工
功能/選項(xiàng):
能量范圍:10 eV 至 1500 eV
光束電流:1 nA 至 100 μA
光斑尺寸:1mm 至 100mm
安裝:2.75 英寸(23/4 英寸)CF,可拆卸選項(xiàng)
特點(diǎn)/選項(xiàng):窄角光束或泛光光束、靜電聚焦、偏轉(zhuǎn)、光柵、脈沖
Kimball Physics EFG-7 電子槍及其匹配的 EGPS-1017 電源旨在用于各種超高真空 (UHV) 物理實(shí)驗(yàn)、表面物理實(shí)驗(yàn)和加工應(yīng)用。它是一個(gè)完整的子系統(tǒng),隨時(shí)可以連接和打開。光束能量、光束電流和光斑尺寸可在很寬的范圍內(nèi)獨(dú)立調(diào)節(jié)。
EFG-7 電子槍使用難熔金屬陰極產(chǎn)生均勻的泛光光束。槍式設(shè)計(jì)允許產(chǎn)生低能量和極低電流的光束。標(biāo)準(zhǔn)型號(hào) EFG-7 可產(chǎn)生 1 nA 至 100 μA 的束流和 10 eV 至 1500 eV 的能量。高電流選項(xiàng)提供高達(dá) 1 mA 的光束電流。
居中、偏轉(zhuǎn)、光柵和脈沖均作為選項(xiàng)提供。由于該設(shè)計(jì)已優(yōu)化為泛洪槍,并使用圓柱形 4 極偏轉(zhuǎn)器,因此當(dāng)光束聚焦到一個(gè)小點(diǎn)時(shí),偏轉(zhuǎn)像差可能會(huì)很嚴(yán)重。
全程采用 UHV 技術(shù)。該噴槍可以在 10 級(jí)真空中運(yùn)行-11torr 最多 10-5torr 用于標(biāo)準(zhǔn) Ta 盤陰極。電子槍可在去除電纜后烘烤至 350°C。使用法拉第杯時(shí),最大值為 65oC 。
Kimbal電子槍系統(tǒng)
Kimball Physics 是電子槍(束)系統(tǒng)的領(lǐng)先供應(yīng)商,其設(shè)計(jì)適用于各種超高真空 (UHV) 表面物理、空間物理和加工應(yīng)用。噴槍可以聚焦小光斑尺寸,用于 X 射線生產(chǎn)、焊接和 RHED 等應(yīng)用;或用于泛光束,用于電荷中和、電子束擦洗、空間模擬和輻射損傷研究。
范圍
- 能量范圍:1 eV 至 100 keV
- 光束電流范圍:1 nA 至 20 mA
- 光斑尺寸范圍:15 μm(聚焦柱)至 500+ mm(泛光光束)
性能
- 束流穩(wěn)定性:反饋穩(wěn)定發(fā)射電流控制;優(yōu)于每小時(shí) ± 0.1%
- 能量穩(wěn)定性:±每小時(shí) 0.01%,全輸出時(shí)每 8 小時(shí)± 0.02%,以最大限度地減少色差