電子槍系統

Kimball Physics 電子槍，其設計用于各種超高真空 (UHV) 表面物理、空間物理和處理應用。噴槍可聚焦小光斑，用于 X 射線生產、焊接和 RHEED 等應用；或用于泛光束，用于電荷中和、電子束洗滌、空間模擬和輻射損傷研究。

操作范圍： ● 能量范圍：1 eV 至 100 keV ● 射束電流范圍：1 nA 至 20 mA ● 光斑尺寸范圍：15 μm（聚焦柱）至 500+ mm（泛光光束）	優勢： ● 客戶可更換的點火裝置 ● 完全操作期間的機械對準 ● 可存儲的控制設置 ● 電腦遙控/計量
性能： ● 光束電流穩定性：反饋穩定的發射電流控制；優于每小時 ± 0.1% ● 能量穩定性：每小時 ± 0.01%，滿輸出時每 8 小時 ± 0.02%，以最大限度地減少色差	應用： ● 快速脈沖/光束消隱 ● 偏轉/光柵 ● 槍式法拉第杯