離子槍系統(tǒng)

Kimball Physics 離子槍系統(tǒng)或離子源用于表面物理、空間物理、真空物理、電荷中和、檢測(cè)校準(zhǔn)、二次離子質(zhì)譜和 MBE 的離子注入。

操作范圍：

  • ● 能量范圍：10eV 至 20 keV
  • ● 射束電流范圍：1 nA 至 2 μA
  • ● 光斑尺寸范圍：500 μm 至 25 mm

優(yōu)勢(shì)：

  • ● 靈活的控制器：獨(dú)立的光纖控制和計(jì)量功能，如離子能量、源、電子能量、場(chǎng)控制、提取、聚焦、X-Y偏轉(zhuǎn)和電子電流控制
  • ● 堿金屬離子源的選擇允許不同的離子種類

性能：

  • ● 射束電流穩(wěn)定性：使用發(fā)射電流控制時(shí)每小時(shí) ±1.0% 或?qū)τ趬A金屬源在沒(méi)有 ECC 的情況下預(yù)熱后每小時(shí) ±10%
  • ● 能量穩(wěn)定性：每小時(shí) ± 0.01%，滿輸出時(shí)每 8 小時(shí) ± 0.02%

應(yīng)用：

  • ● 快速電容光束或雙柵極脈沖
  • ● 偏轉(zhuǎn)/光柵
  • ● 槍式法拉第杯

離子槍