Kimball Physics是電子槍的主要供應商，這些電子槍設計用于各種超高真空（UHV）表面物理學，空間物理學和處理應用程序。噴槍可以聚焦成小光斑，用于X射線生產，焊接和RHEED等應用；或用于泛光束，用于電荷中和，電子束洗滌，空間模擬和輻射損傷研究。

能量范圍:?50 eV to 5k eV

束流范圍:?1 nA to 100 μA

光斑范圍:?1 mm to 10 mm

安裝接口:?2?CF

選配功能:?電子掃描， 偏轉， 高速脈沖

束流電流穩定性：反饋穩定的發射電流控制；每小時優于±0.1％

能量穩定性：每小時±0.01％，全輸出時每8小時±0.02％，以減少色差

電子槍應用于：

1.電荷中和

2.表面物理研究

3.電離實驗

4.表面清洗