技術(shù)說明

產(chǎn)品概述

雙晶體縱向模式普克爾斯盒是一種通過創(chuàng)新設(shè)計(jì)顯著降低驅(qū)動(dòng)電壓的電光調(diào)制器件。與橫向模式器件不同，本產(chǎn)品采用縱向電場設(shè)計(jì)，通過雙晶體結(jié)構(gòu)將工作電壓降低50%，同時(shí)保持優(yōu)異的消光比性能。

核心技術(shù)特點(diǎn)

1. 電壓減半設(shè)計(jì)

• 采用雙KD*P晶體光學(xué)串聯(lián)、電學(xué)并聯(lián)結(jié)構(gòu)
• 1064nm波長下驅(qū)動(dòng)電壓從單晶體的6kV降至3kV左右
• 保持縱向模式器件固有的幾何不敏感性優(yōu)勢

2. 靈活配置選項(xiàng)

• 提供1/2/4端子電氣接口配置
• 可選晶體間折射率匹配液填充或干式結(jié)構(gòu)
• 支持抗反射鍍膜定制（需額外費(fèi)用）
• 可選用傾斜窗口或楔形晶體設(shè)計(jì)抑制干涉效應(yīng)

3. 多樣化產(chǎn)品系列

• 標(biāo)準(zhǔn)孔徑：8/10/12mm（最大支持25mm）
• 包含緊湊型系列和超快系列（UPC）雙晶體版本
• 電容負(fù)載約為單晶體器件的兩倍

典型應(yīng)用

• 高消光比要求的Q開關(guān)系統(tǒng)
• 低電壓驅(qū)動(dòng)的脈沖選擇系統(tǒng)
• 高功率激光調(diào)制應(yīng)用
• 對(duì)光學(xué)性能有嚴(yán)格要求的科研實(shí)驗(yàn)

產(chǎn)品優(yōu)勢

• 電壓需求降低50%，顯著減少系統(tǒng)成本
• 保持縱向模式器件的光學(xué)性能優(yōu)勢
• 一體化設(shè)計(jì)降低安裝調(diào)試復(fù)雜度
• 靈活的配置選項(xiàng)滿足特殊需求

我們可提供從標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格到完全定制的雙晶體普克爾斯盒解決方案。如需了解更多技術(shù)細(xì)節(jié)或特殊需求支持，歡迎隨時(shí)聯(lián)系我們的技術(shù)團(tuán)隊(duì)。