LK-Technologies強大，流行的離子源設計用于通過離子濺射清潔表面，光束能量高達3 keV，典型離子電流高達30μA。該噴槍采用了一種新穎的氣體噴射系統，該系統允許在典型的1×10?^-6托的腔室壓力下進行濺射。

• 專利的氣體注入系統避免了昂貴的差動泵送設備
• 低室壓下的惰性氣體濺射
• 寬離子束確保均勻濺射
• 與普通濺射清潔和ISS應用兼容
• 連續可調諧的電壓從200 V到3 kV
• 帶USB或以太網接口的數字控制電子設備